שטאָק שטייענדיק אַלטראַסאַניק קאָוטינג סיסטעם FS650

מייַלע
פּראָדוקט קאָנפיגוראַציע
-
קאָנווענציאָנעלע אָרדענונג
1. אַלטראַסאַניק אַטאָמיזינג נאָזל: אַ הויך-פרעקווענץ נאָזל פּאַסיק פֿאַר פֿאַרשידענע סאַלושאַנז
2. אַלטראַסאַניק גענעראַטאָר: LCD אינטעליגענט CNC
3. פליסיק צושטעל עקוויפּמענט: פּרעציזיע ינדזשעקשאַן פּאָמפּע + ביאָלאָגישער גראַד סאַמפּלער, פליסיק צושטעל אַקיעראַסי פון 0.1 μ ל/מין
4. באַוועגונג סיסטעם: XYZ דריי-אַקס ימפּאָרטיד סערוואָ באַוועגונג סיסטעם, R-אַקס נאָזל ראָטאַציע מעקאַניזאַם
5. אפערירן סיסטעם: אויסגעשטאט מיט FUNSONIC'ס קאנטראל סיסטעם ספעציעל אנטוויקלט פאר אולטראַסאָניק שפּריצן, איז די אפעראַציע שנעל און גרינג צו ניצן. עס קען אינטעגרירן פונקציעס ווי אולטראַסאָניק אַטאָמיזאַציע, אולטראַסאָניק דיספּערזשאַן, אינדזשעקשאַן פּאָמפּע, גייד גאַז, הייצונג טיש, און וואַקוום אַדסאָרפּטיאָן פּלאַטע, אַרייַנגערעכנט איין קליק דזשענעריישאַן פון אָפט גענוצטע טעמפּלאַט טראַיעקטאָריעס און רעדאַקטירן פון קאָמפּלעקסע G-קאָד טראַיעקטאָריעס.
-
אפציאָנעלע קאָנפיגוראַציע
1. אַלטראַסאַניק דיספּערזשאַן: די 40K אַלטראַסאַניק דיספּערזשאַן סיסטעם איז עמבעדיד אין די סאַמפּלער און ניצט די אַלטראַסאַניק ווייבריישאַן ווירקונג צו דורכפירן פייַן אָדער ולטראַ-פייַן אַלטראַסאַניק גרינדינג אויף סאָלידס אָדער פלוידס.
2. הייצונג און טריקעניש פּלאַטפאָרמע: אַלומינום צומיש קליין לאָך הייצונג פּלאַטע, מיט אַ מאַקסימום הייצונג טעמפּעראַטור פון 300 ℃, פּאַסיק פֿאַר דין פּלאַטע סאַבסטראַטן; מיקראָ פּאָרעז קעראַמיק פּרעציזיע הייצונג פּלאַטע, טויגעוודיק פון הייצונג ביז 150 ℃, פּאַסיק פֿאַר דין פילם סאַבסטראַטן
3. וואַקוום אַדסאָרפּשאַן פּלאַטפאָרמע: יקוויפּט מיט קייפל וואַקוום דזשענערייטערז, וואָס קענען זיין קאַנטראָולד דורך זאָנעס, אַקיעראַטלי אַדסאָרב פילם סאַבסטראַטן אָן דעפאָרמאַציע.
4. לאַזער פּאַזישאַנינג: ניצן אַ לאַזער צו שנעל אַליין די מאַטעריאַל שפּריצן שטעלע.
5. אנדערע קאנפיגוראציעס: פוטמאסטער ראָדלעך, דריי-קאָלירט אינדיקאַטאָר ליכט, רוי מאַטעריאַל סטאָרידזש
מיר קענען אויך קאַסטאַמייז אנדערע קאָנפיגוראַציעס לויט דיין באדערפענישן.
פּראָדוקט אַפּליקאַציע
1. גלאז: פּאַסיק פֿאַר פאַבריצירן טראַנספּאַרענט קאַנדאַקטיוו פילמען, וויידלי געניצט אין ריר סקרינז און אָפּטאָעלעקטראָניק דעוויסעס.
2. קעראַמיק: אין די פעלדער פון עלעקטראָנישע קאָמפּאָנענטן און קאַטאַליסטן, קענען קעראַמישע סאַבסטראַטן צושטעלן גוטע כעמישע פעסטקייט און הויך טעמפּעראַטור קעגנשטעל.
3. מעטאַל: מעטאַל סאַבסטראַטן (אַזאַ ווי אַלומינום, קופּער, אאז"וו) קענען געניצט ווערן פֿאַר עלעקטרישע פֿאַרבינדונגען און דעפּאַזישאַן פון קאַנדאַקטיוו פילמען.
4. האַלב-קאָנדוקטאָרן: האַלב-קאָנדוקטאָר מאַטעריאַלן ווי סיליקאָן און דזשערמאַניאַם זענען פּאַסיק פֿאַר דין-פֿילם דעפּאָזיציע אין מיקראָעלעקטראָניק דעוויסעס צו ענשור ויסגעצייכנט עלעקטרישע פאָרשטעלונג.
5. פּאָלימערן: עטלעכע פּאָלימער סאַבסטראַטן קענען וויטשטיין נידעריק-טעמפּעראַטור דעפּאַזישאַן און זענען פּאַסיק פֿאַר דער צוגרייטונג פון פלעקסאַבאַל עלעקטראָניש דעוויסעס.
6. קאָמפּאָזיט מאַטעריאַלן: קאָמפּאָזיט סאַבסטראַטן קענען געניצט ווערן פֿאַר אַפּליקאַציעס וואָס דאַרפן לייכטע וואָג און הויך שטאַרקייט, אַזאַ ווי די אַעראָספּייס און אָטאָמאָטיוו ינדאַסטריז.
7. פילם מאַטעריאַלן: פּאַסיק פֿאַר ייבערפלאַך מאָדיפיקאַציע און פאַנגקשאַנאַליזאַציע פון אנדערע יגזיסטינג פילם מאַטעריאַלן.
8. אָפּטישע מאַטעריאַלן: אָפּטישע מאַטעריאַלן מיט גוטער טראַנספּאַרענץ קענען גענוצט ווערן פֿאַר דער דעפּאָזיציע פֿון אָפּטישע פֿילמען, פֿאַרבעסערנדיק טראַנספּאַרענץ און אַנטי-רעפֿלעקציע פאָרשטעלונג.
9. ביאָמאַטעריאַלן: פּאַסיק פֿאַר די דעפּאָזיציע פון ביאָקאָמפּאַטיבלע קאָוטינגז אין ביאָמעדיצינישע אַפּלאַקיישאַנז.






